VT Cosmetics Cica Mask Cleanser

VT Cosmetics Cica Mask Cleanser — valomoji kaukė-putos, padedanti išvalyti poras, sugerti sebumo perteklių ir glotninti odos paviršių.

Ši 2 viename priemonė derina intensyvesnį porų valymą su švelnia eksfoliacija, kad oda atrodytų lygesnė ir matinė. Smulkios centella ir žaliosios arbatos dalelės padeda pašalinti negyvas odos ląsteles, o kelių rūšių moliai sugeria riebalų perteklių. Formulėje esantis retinolis ir drėkinantys komponentai padeda palaikyti komforto pojūtį po prausimo.

Privalumai

• Gilus porų valymas — padeda pašalinti nešvarumus ir sebumo perteklių, kad oda jaustųsi švaresnė.
• Švelni eksfoliacija — centella ir žaliosios arbatos dalelės prisideda prie lygesnės odos tekstūros.
• Matinis efektas — moliai padeda sumažinti blizgesį ir suteikti gaivesnę išvaizdą.

Kam tinka

• Normaliai, mišriai ir riebiai odai, ypač kai vargina blizgesys.
• Odai su išryškėjusiomis poromis ir nelygiu reljefu.

Pagrindinės sudedamosios dalys

• 3 rūšių moliai (illitas, kaolinas, montmorilonitas) — padeda sugerti sebumą ir valyti odos paviršių.
• Retinolis — prisideda prie odos atsinaujinimo pojūčio ir lygesnės tekstūros.

Kaip naudoti

1. Tepkite VT Cosmetics Cica Mask Cleanser ant sausos odos ir švelniai pamasažuokite.
2. Įlašinkite truputį vandens, suputokite ir nuplaukite šiltu vandeniu; kaip kaukę palaikykite 1–2 min. prieš nuplaunant.

FAQ / DUK

Ar VT Cosmetics Cica Mask Cleanser tinka inkštirams ir užsikimšusioms poroms?

Priemonė skirta gilesniam porų valymui ir sebumo pertekliui sugerti, todėl gali būti ypač naudinga, kai poros linkusios kimštis.

Ar galima naudoti kasdien?

Daugeliui odos tipų formulė tinka kasdieniam naudojimui, tačiau jei oda jautresnė ar reaguoja į aktyvius ingredientus, pradėkite nuo retesnio naudojimo ir stebėkite komfortą.

Ar ši kaukė-putos tinka jautriai odai, jei sudėtyje yra retinolio?

Jautriai odai rekomenduojama pradėti palaipsniui ir laikyti trumpiau (pvz., nenaudoti kaip kaukės), o po prausimo naudoti drėkinančias priemones; dieną nepamirškite SPF.